لطفا کمک کنید خیلی مهمه

sina-1991

عضو جدید
سلام

اگه کسی در مورد موارد زیر که مربوط به فیزیک الکترونیک میشه اطلاعاتی داره ممنون میشم اگه بیان کنه .

واسم خیلی مهمه اگه واقعا خودتون میدونین یا منبعی رو میشناسین معرفی کنین (باید به استاد تحویل بدم)

1- دو نمونه ار ساختار آلیاژهای نیمه هادی و ساختار سلول واحد آن را بیان کنید.

2-اولین بار خاص سازی مواد نیمه هادی چگونه انجام شد ؟ و چه بوده است ؟

3-pvd چیست و چه برتری و معایبی نسبت به cvd دارد ؟

4- تست مخرب و نیمه مخرب در نیمه هادی چگونه است ؟
 

nazliii

مدیر مهندسی برق مخابرات - متخصص نیمه هادی
سلام

اگه کسی در مورد موارد زیر که مربوط به فیزیک الکترونیک میشه اطلاعاتی داره ممنون میشم اگه بیان کنه .

واسم خیلی مهمه اگه واقعا خودتون میدونین یا منبعی رو میشناسین معرفی کنین (باید به استاد تحویل بدم)

1- دو نمونه ار ساختار آلیاژهای نیمه هادی و ساختار سلول واحد آن را بیان کنید.

2-اولین بار خاص سازی مواد نیمه هادی چگونه انجام شد ؟ و چه بوده است ؟

3-pvd چیست و چه برتری و معایبی نسبت به cvd دارد ؟

4- تست مخرب و نیمه مخرب در نیمه هادی چگونه است ؟

cvd=chemical vapor deposition
pvd=physical vapor deposition
روش شیمایی زیر مجموعه روش فیزیکی است و مزیت های زیادی دارد مانند :
1- قابلیت تولید مواد خالص و با چگالی زیاد
2- تولید فیلم های یکنواخت
3- cvd یک پروسه غیر جهت دار است که میتواند برای پوشش فیلم های غیر یکنواخت با ساختار پیچیده به کار برود.
4- قایلیت کنترل ساختار کریستال را دارد .
5- دما دیپوزیشن آن پایین است.
6- از رنج وسیعی از مواد شیمیایی استفاده میکند.
معایب:
1- واکنش شیمیایی ممکن است سبب ایجاد گازهای سمی شود.
2-استفاده از راکتورها و سیستم های خلا در این روش هزینه عملیات را بالا میبرد.

آلیاژ:
Al[SUB]x[/SUB]Ga[SUB]1-x[/SUB]As که خونده میشه Aluminium gallium arsenide .
Si[SUB]1-x[/SUB]Ge[SUB]x که خونده میشه
[/SUB]Silicon-germanium
 
آخرین ویرایش:

sina-1991

عضو جدید
cvd=chemical vapor deposition
pvd=physical vapor deposition
روش شیمایی زیر مجموعه روش فیزیکی است و مزیت های زیادی دارد مانند :
1- قابلیت تولید مواد خالص و با چگالی زیاد
2- تولید فیلم های یکنواخت
3- cvd یک پروسه غیر جهت دار است که میتواند برای پوشش فیلم های غیر یکنواخت با ساختار پیچیده به کار برود.
4- قایلیت کنترل ساختار کریستال را دارد .
5- دما دیپوزیشن آن پایین است.
6- از رنج وسیعی از مواد شیمیایی استفاده میکند.
معایب:
1- واکنش شیمیایی ممکن است سبب ایجاد گازهای سمی شود.
2-استفاده از راکتورها و سیستم های خلا در این روش هزینه عملیات را بالا میبرد.

آلیاژ:
Al[SUB]x[/SUB]Ga[SUB]1-x[/SUB]As که خونده میشه Aluminium gallium arsenide .
Si[SUB]1-x[/SUB]Ge[SUB]x که خونده میشه
[/SUB]Silicon-germanium

واقعا ممنونم ازت خیلی کمک کردی اگه ممکن بود به جای یه تشکر 100 تا تشکر واست میزدم :D
 

nazliii

مدیر مهندسی برق مخابرات - متخصص نیمه هادی
بالا